एमवीआर राइजिंग फिल्म इवेपोरेटर

एमवीआर

एक एमवीआर उभरती फिल्म बाष्पीकरणकर्ता जो यांत्रिक पुनर्संपीड़न के माध्यम से द्वितीयक वाष्प को पुनर्चक्रित करता है, पुनर्प्राप्त ऊर्जा को पुन: प्रयोज्य ताप स्रोत में परिवर्तित करता है - निरंतर, नियंत्रित एकाग्रता बनाए रखते हुए ताजा भाप निर्भरता को कम करता है।

पारंपरिक वाष्पीकरण प्रणालियों के विपरीत, जो गर्मी हस्तांतरण के बाद द्वितीयक वाष्प का निर्वहन करती हैं, एमवीआर प्रक्रिया हीटिंग सिस्टम में वापस लौटने से पहले इस वाष्प को पकड़ती है और संपीड़ित करती है।

द्वितीयक वाष्प पुनर्प्राप्ति:वाष्पीकरण के दौरान उत्पन्न वाष्प को केवल अपशिष्ट ऊष्मा के रूप में व्यवहारित करने के बजाय एकत्र किया जाता है।

यांत्रिक पुनर्संपीड़न:एक वाष्प कंप्रेसर पुनर्प्राप्त वाष्प के दबाव और संबंधित तापमान को बढ़ाता है ताकि इसे हीटिंग माध्यम के रूप में पुन: उपयोग किया जा सके।

बंद तापीय चक्र:पुनर्संपीड़ित वाष्प बाष्पीकरणकर्ता के तापन पक्ष में लौट आता है, जिससे वाष्पीकरण, वाष्प पुनर्प्राप्ति और गर्मी के पुन: उपयोग का एक निरंतर चक्र बनता है।

बढ़ती हुई -फिल्म कॉन्फ़िगरेशन तरल पदार्थ को ऊपर की ओर ले जाने के लिए हीटिंग ट्यूबों के अंदर वाष्प उत्पादन का उपयोग करती है, जिससे वाष्पीकरण के दौरान एक बढ़ती हुई तरल फिल्म बनती है।

निचला-फ़ीड हीटिंग:फ़ीड तरल ऊर्ध्वाधर हीटिंग ट्यूबों के निचले भाग में प्रवेश करता है और उबलने की स्थिति तक गर्म होता है।

वाष्प-संचालित फिल्म निर्माण:जैसे ही वाष्पीकरण शुरू होता है, उत्पन्न वाष्प उच्च वेग से ऊपर की ओर बढ़ता है और ट्यूब की दीवार के साथ तरल को ऊपर की ओर ले जाता है।

सतत वाष्पीकरण:तरल फिल्म वाष्पित होती रहती है क्योंकि यह हीटिंग ट्यूबों के माध्यम से ऊपर उठती है, जिससे तेजी से गर्मी और बड़े पैमाने पर स्थानांतरण को बढ़ावा मिलता है।

वाष्प-तरल पृथक्करण:वाष्प-तरल मिश्रण हीटिंग अनुभाग को छोड़ देता है और विभाजक में प्रवेश करता है, जहां केंद्रित तरल और द्वितीयक वाष्प अलग हो जाते हैं।

ताज़ा भाप पर निर्भरता कम:एक बार एमवीआर चक्र स्थापित हो जाने के बाद, पुनर्प्राप्त वाष्प चल रही हीटिंग मांग का एक बड़ा हिस्सा आपूर्ति करता है, जिससे बाहरी प्राथमिक भाप पर निर्भरता कम हो जाती है।

कम शीतलन मांग:क्योंकि वाष्प ऊर्जा को नियमित रूप से अपशिष्ट ताप के रूप में संघनित करने के बजाय प्रक्रिया के भीतर पुन: उपयोग किया जाता है, समग्र उपयोगिता मांग को कम किया जा सकता है।

संक्षिप्त प्रक्रिया व्यवस्था:एमवीआर सिस्टम अपेक्षाकृत कॉम्पैक्ट उपकरण व्यवस्था के भीतर उच्च तापीय उपयोग प्राप्त कर सकते हैं।

स्वचालित प्रक्रिया नियंत्रण:फ़ीड प्रवाह, वाष्पीकरण की स्थिति, वाष्प संपीड़न और अन्य ऑपरेटिंग मापदंडों को एक स्वचालित नियंत्रण प्रणाली के माध्यम से समन्वित किया जा सकता है।

अकेले ऊर्जा दक्षता एक औद्योगिक बाष्पीकरणकर्ता को व्यावहारिक नहीं बनाती है - सिस्टम को स्थिर परिचालन स्थितियों को भी बनाए रखना चाहिए। हम इसके लिए डिज़ाइन करते हैं:

वाष्प दबाव नियंत्रण:स्थिर दबाव आवश्यक वाष्पीकरण तापमान और उचित कंप्रेसर ऑपरेटिंग रेंज सुनिश्चित करता है।

सामग्री प्रवाह नियंत्रण:फ़ीड और सांद्र प्रवाह वाष्पीकरण भार के साथ समन्वित रहता है।

कंप्रेसर ऑपरेशन:कंप्रेसर का प्रदर्शन उत्पन्न वाष्प की मात्रा और दबाव आवश्यकताओं के साथ सिंक्रनाइज़ रहता है।

स्वचालित निगरानी:निरंतर संचालन का समर्थन करने के लिए मुख्य प्रक्रिया चर की निगरानी और नियंत्रण केंद्रीय रूप से किया जाता है।

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